背景技术：

 真空清洗炉是一种在密封空间内实现真空和高温环境，从而对空间内的残留有高分子聚合物类物质的设备和部件进行清洗的设备，以往的真空清洗炉结构复杂，体积大，移动和使用较为麻烦，清洗效果和隔热功能欠佳，有待于进一步改进。

 技术实现要素：

针对上述现有技术的现状，本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种结构简单，体积小，移动和使用简单方便，同时提高了清洗效果，加强了隔热功能，保证了使用稳全的真空清洗炉。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种真空清洗炉，包括矩形框、顶撑条、中撑条、侧撑条、台板、底撑条、水箱、管塞、汽化器、风机、轮机、排气管、一阀门、加压器、炉体、上排管、二阀门、温度传感器、压力传感器、托盘、炉门、进汽管、排污管和隔热层，其特征在于，所述台板的前后两侧侧面均固定有一个中撑条，所述台板的左右两侧侧面均固定有一个侧撑条，所述两个侧撑条的两端分别固定在两个矩形框的内侧侧面上，所述两个矩形框相互对称分布，所述每个中撑条的两端分别固定在每个矩形框的内侧侧面之间，使得所述台板水平固定在两个矩形框的中下部；所述两个矩形框的上方内侧侧面之间还固定有两个对称分布的顶撑条，所述两个矩形框的下方内侧侧面之间还固定有两个对称分布的底撑条；所述水箱固定在两个底撑条上；所述水箱的外侧侧面上向上成型有倾斜分布的加水管，所述加水管的开口处塞入有管塞。

优先地，所述台板的上平面上固定有炉体，所述炉体的顶部外侧中心固定有竖直向上分布的上排管，所述上排管上装设有二阀门。

优先地，所述炉体的内壁上装设有温度传感器和压力传感器。

优先地，所述炉体的内壁下方固定有水平分布的托盘，所述托盘的上平面上开设有若干个透水孔，所述炉体的外侧装设有炉门，所述炉门的开口处下边缘与托盘的上平面位于同一水平面上。

优先地，所述炉体的内壁下方还固定有水平分布的隔热层，所述隔热层位于托盘的下方；所述炉体的下方外侧装设有排污管，所述排污管的内端与炉体的内部相连通并位于隔热层与托盘之间。

优先地，所述进汽管的一端插入固定在炉体的上方外侧并与炉体内部相连通，所述进汽管的另一端与加压器的输出管相连通，所述加压器固定在台板的上平面上，所述加压器的输入管与轮机的进风口相连通，所述轮机的出风口连接有排气管，所述排气管上装设有一阀门。

优先地，所述轮机的一侧外侧装设有风机，所述轮机的另一侧与汽化器的蒸汽出口相连通，所述汽化器的下端固定在台板的上平面上；所述汽化器的外侧通过管道与水箱相连通。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：真空清洗炉是一种在密封空间内实现真空和高温环境，从而对空间内的残留有高分子聚合物类物质的设备和部件进行清洗的设备，以往的真空清洗炉结构复杂，体积大，移动和使用较为麻烦，清洗效果和隔热功能欠佳；本实用新型结构简单，体积小，移动和使用简单方便，同时提高了清洗效果，加强了隔热功能，保证了使用稳全